装置简介

  装置主要由黑体辐射源、位移机构、标准样管、可编程直流偏置源、图形发生器、可编程时钟驱动源、数据采集系统、计算机及相应测控软件、传递件等组成，采用双面源黑体测量红外焦平面阵列的黑体响应率、噪声、黑体探测率、响应率不均匀性等参数。

主要用途

  装置主要用于测量红外焦平面阵列的黑体响应率、噪声、黑体探测率和响应率不均匀性等参数。同时可以对红外焦平面阵列黑体响应率、噪声、黑体探测率测试系统进行校准。

主要技术指标

  黑体响应率测量不确定度：6%   (k=2)

  噪声测量不确定度： 8%   (k=2)

  黑体探测率测量不确定度: 10%  (k=2)

  响应率不均匀性测量不确定度： 1%   (k=2)